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介紹:
概要
Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI410/WNI411鍍鎳控制器是應(yīng)用光電子學(xué)的原理來量度溶液中的銅/鎳濃度的在線分析添加儀。Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI鍍鎳控制器應(yīng)用范圍廣泛,當(dāng)中包括應(yīng)用在化學(xué)鍍槽或微蝕刻槽(包括氧化還原類型的)。
WCU410可以通過菜單切換化學(xué)鍍銅或微蝕刻應(yīng)用而無需購置另一臺控制器。另外它能減少人工滴定檢驗的需要從而提高效益;在應(yīng)用于微蝕刻工藝時,它能通過減少更換槽內(nèi)液體的頻率而提高生產(chǎn)力。
WNI410可僅提供鍍鎳控制選項,也可添加pH控制選型(WNI411型)。設(shè)有兩個可控制泵之獨立輸出信號,專為鎳鍍液和還原劑而設(shè);另一個輸出專為pH而設(shè)。每個輸出端口都可以統(tǒng)計泵的運(yùn)作時間、總流量、和金屬離子周轉(zhuǎn)量。
綜合數(shù)據(jù)記錄能驗證系統(tǒng)性能。只需一個U盤就可以提取鍍銅鍍鎳的測量數(shù)據(jù)、事件日志、繼電器狀態(tài)。也可透過U盤下載數(shù)據(jù)到個人計算機(jī),沒有比這更方便的了。
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